国家知识产权局信息显示，原子高科股份有限公司取得一项名为“一种α仪表刻度源”的专利，授权公告号CN224501502U，申请日期为2025年7月。

专利摘要显示，本实用新型涉及放射源技术领域，尤其涉及一种α仪表刻度源及其制备方法。所述α仪表刻度源包括源芯和基板；所述源芯包括第一聚碳酸酯膜和第二聚碳酸酯膜，所述第一聚碳酸酯膜的一侧吸附有含放射性核素的沉淀物，所述第一聚碳酸酯膜的另一侧通过导电胶与所述基板连接，所述第一聚碳酸酯膜吸附有含放射性核素的沉淀物的一侧与所述第二聚碳酸酯膜通过热压封装为一体结构。本实用新型提供的新型结构的α仪表刻度源，结构牢固，安全可靠，而且性能优良，核素普适性好且易于定量。

天眼查资料显示，原子高科股份有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本16178.4136万人民币。通过天眼查大数据分析，原子高科股份有限公司共对外投资了50家企业，参与招投标项目3666次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息365条，此外企业还拥有行政许可44个。

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来源：市场资讯